半導体製造体験（2024年11月25日開催）
概要・受講対象
半導体の製造におけるリソグラフィ工程（レジスト塗布/露光・現像/エッチング）を九州大学のクリーンルームにて1日で体験します。
半導体関連業務に従事していても実際の製造現場を知らない方にお薦めします。
本講座と「半導体製造体験（2024年11月18日開催）」の内容は同じです。どちらかを選択してお申し込みください。
プログラム
※一部変更になる場合がございます
| 【概要】PチャネルMOSFETをシリコン基板上に集積化した論理回路(NAND)を例題として取り上げ、集積回路(IC)製造プロセスの一部(リソグラフィ工程)を行うとともに、MOSFETと論理回路の動作特性を計測・評価します。 |
| １．IC製造プロセス（講義）
２．実習に用いる装置・材料の説明（講義）
３．ＩＣ製造（実習）
クリーンルームにて
（１）レジスト塗布
（２）露光・現像
（３）エッチング ４．ＩＣの計測（実習）
（１）MOSFETのしきい値電圧の評価
（２）NAND回路の動作特性の計測 ５．データ整理とまとめ
PC（センターで準備）を使ってデータ整理を行い、 発表していただきます。 |
| ※実習について、「３．ＩＣ製造（実習）」と「４．ＩＣの計測（実習）」とは２グループに分かれて午前と午後で実習内容を入れ替えながら実施します。
※クリーンルームでは防塵服を着用します。手続き簡略化のためサイズはLL(身長～182cm､胸囲～112cm)に統一させていただきます。なお防塵服着用のためスカートでの参加はご遠慮ください。 |
開催概要
| 講 師 | 九州大学 システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門 電子デバイス工学 准教授 佐道 泰造 氏 |
| 開催日 | 令和6年11月25日(月) 10:00～17:00 |
| 開催形態 | 対面のみ |
| 会 場 | 〒819-0395 福岡市西区元岡７４４ 九州大学伊都キャンパス
ウエスト２号館 ５階 ５４７号室（第２会議室） |
| 受講料等 | 税込 33,000円 ・申込みには、「ふくおかIST e-learning」 への会員登録が必要です。
・お支払い後、当日の参加有無にかかわらず返金はいたしません。
・福岡県内中小企業の方には、受講料に対する補助制度があります。 ・特段の事情が発生した場合、やむを得ず中止又は延期する場合がございます。 |
| 定 員 | 対面 8名 |
| 申込み | 令和6年11月20日(水)17:00までに、下記（講座・セミナー等 申込）ボタンより「半導体製造体験（2024年11月25日開催）」を選択してお申込みください。 |
定員に達したため、本講座の申込みは終了しました。