一日で学ぶ半導体製造プロセス概論
概要・受講対象
MOSデバイス構造の変遷、その中で発展してきた主要なプロセス技術の概要を学び、基本となるプレーナ型MOSトランジスタの製造プロセスとその個別プロセス及び要素技術について学習します。半導体の製造プロセスの基礎知識を学びたい⽅、⾼校の物理・数学の知識を有する⽅が対象です。
プログラム
※一部変更になる場合がございます
| 1章 イントロダクション | ・身近な半導体
・なぜ半導体？
・半導体がやっていること |
| 2章 半導体物性と応用 | １．半導体とは？
２．pn接合
３．MOSトランジスタ
４．半導体の応答とその応用素子 |
| 3章 半導体デバイス・プロセス技術 | １．MOS デバイス、プロセス技術の歴史と現在 ２．パワーデバイスデバイス、プロセス技術 |
| 4章 半導体の製造工程概略 | １．MOS トランジスタ製造工程（プレーナー型 MOS） ２．前工程（ウエハプロセス）要素技術
３．後工程：個別素子パッケージ、SiP ・ 3 次元実装 |
開催概要
| 開催日 | 2024年5月17日（金）9:00～17:00 |
| 開催形態 | ハイブリッド開催（対面＋Zoom） |
| 会 場 | 対面形式の会場：福岡市早良区百道浜3-8-33 福岡システムLSI総合開発センター 2階 講義室 オンライン会場：Zoom （接続先はお支払い完了後ご案内） |
| 受講料等 | 税込 33,000円 ・対面、オンラインは同価格です
・申込みには、「ふくおかIST e-learning」 への会員登録が必要です
・お支払い後、当日の参加有無にかかわらず返金はいたしません ・福岡県内中小企業の方には、受講料に対する補助制度があります
・講座当日、全受講者にpdfテキスト（印刷不可）配布、対面受講者には紙テキストも配布します
なおテキストの無断転載・複製等は禁止しています
・特段の事情が発生した場合、やむを得ず中止又は延期する場合がございます |
| 定 員 | 対面 40名 オンライン 90名 |
| 申込み | 令和6年5月14日（火）17:00までに、下記（講座・セミナー等 申込）ボタンより
「一日で学ぶ半導体製造プロセス概論」の対面またはオンラインを選択してお申込みください |
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